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2025年半导体光刻技术五年报告.docx

2025年半导体光刻技术五年报告.docx

    2025年半导体光刻技术五年报告

    一、2025年半导体光刻技术五年报告

    1.1技术发展背景

    1.2技术发展现状

    1.2.1光刻机技术

    1.2.2光刻胶技术

    1.2.3光刻光源技术

    1.3技术发展趋势

    1.3.1极紫外光（EUV）光刻技术

    1.3.2纳米光刻技术

    1.3.3光刻材料创新

    1.3.4产业链协同创新

    二、光刻机技术发展分析

    2.1光刻机技术发展历程

    2.1.1接触式光刻机阶段

    2.1.2投影式光刻机阶段

    2.1.3EUV光刻机阶段

    2.2光刻机技术发展趋势

    2.2.1分辨率提升

    2.2.2EUV光刻机普及

    2.2.3多光束光刻技术

    2.3光刻机技

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