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掺杂ZnO稀磁材料薄膜：制备工艺与室温磁性的深度探究

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，半导体材料作为现代电子学的基石，其性能的提升和新特性的探索一直是材料科学领域的研究热点。稀磁半导体（DilutedMagneticSemiconductors，DMS）作为一种新型的半导体材料，将半导体的电学性质与磁性材料的磁学性质相结合，为实现电子学和磁学的交叉应用提供了可能，因此受到了广泛的关注。

稀磁半导体的研究可以追溯到上世纪60年代，当时研究的磁性半导体材料多为天然矿石，如硫族铕化物。然而，这类材料存在晶体生长困难、居里温度远低于室温以及导电性能接近绝缘体等问题