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粉末冶金技术在溅射靶材制备中的研究现状.docxVIP

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  • 2026-02-05 发布于浙江
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粉末冶金技术在溅射靶材制备中的研究现状.docx

    2024年第53卷第7期Vol.53No.72024]

    ]

    热加工工艺

    HotWorkingTechnology

    ISSN1001-3814CN61-1133/TG

    DOI:10.14158/j.cnki.1001-3814.rjggy@

    粉末冶金技术在溅射靶材制备中的研究现状姚甜1,王新锋1,刘李旭1,向长淑1,2

    (1.西安赛隆金属材料有限责任公司,陕西西安710000;2.金属多孔材料国家重点实验室,陕西西安710000)

    摘要院磁控溅射靶材由于沉积速率快尧镀膜均匀等优点袁已成为各类薄膜材料的首选制

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