2026年中国光阻干膜市场现状规模及营销策略分析报告年.docx

研究报告

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2026年中国光阻干膜市场现状规模及营销策略分析报告年

一、市场概述

1.市场定义及分类

(1)光阻干膜，作为一种重要的半导体制造材料，广泛应用于半导体器件的制造过程中。它主要用于光刻工艺，通过光刻机将光阻材料均匀涂覆在硅片表面，形成光刻掩模，进而实现对半导体器件的精细图案化。根据材料类型，光阻干膜可分为正性光阻和负性光阻两大类。正性光阻在曝光后，经显影处理，未曝光部分溶解，形成所需图案；而负性光阻则在曝光后，经显影处理，曝光部分溶解，形成所需图案。近年来，随着半导体工艺的不断进步，光阻干膜的需求量逐年上升。据统计，2025年全球光阻干膜市场规模