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电子束曝光模型：原理、技术与应用的深度剖析

一、引言

1.1研究背景与意义

在当今科技飞速发展的时代，微纳制造技术已成为众多领域实现创新突破的关键支撑，而电子束曝光技术作为微纳制造领域的核心技术之一，正发挥着日益重要的作用。其凭借独特的工作原理和显著优势，在推动半导体、光学、生物医学等产业发展进程中扮演着不可或缺的角色，成为学术界和工业界共同关注的焦点。

从半导体产业来看，随着信息技术的爆炸式增长，对芯片性能和集成度的要求不断攀升。在摩尔定律的驱动下，半导体器件的尺寸持续缩小，从早期的微米级逐步迈入纳米级时代。电子束曝光技术以其超高分辨率的特性，能够实现纳米级别的图形刻画，为制备极小尺寸的集