CN101981658B 半导体元件、半导体元件用外延基板及其制作方法 (日本碍子株式会社).docxVIP

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CN101981658B 半导体元件、半导体元件用外延基板及其制作方法 (日本碍子株式会社).docx

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN101981658B

(45)授权公告日2014.10.29

(21)申请号200980110484.2

(22)申请日2009.03.13

(30)优先权数据

2008-0755812008.03.24JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2010.09.25

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2009/0549522009.03.13

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2009/119357JA2009.10.01

(73)专利权人日本碍子株式会社地址日本爱知县

(72)发明人三好实人仓冈义孝角谷茂明田中光浩

(74)专利代理机构北京北翔知识产权代理有限公司11285

代理人杨勇郑建晖

HO1L21/20(2006.01)

HO1L21/338(2006.01)

HO1L29/201(2006.01)

HO1L29/778(2006.01)

HO1L29/812(2006.01)

(56)对比文件

JP特开2000-223697A

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