2025 年大学电子信息工程（集成电路）上学期期末测试卷.docVIP

2025年大学电子信息工程（集成电路）上学期期末测试卷

（考试时间：90分钟满分100分）班级______姓名______

一、单项选择题（总共10题，每题3分，每题只有一个正确答案，请将正确答案填在括号内）

1.集成电路制造中，光刻技术的分辨率主要取决于（）

A.光源波长B.光刻胶厚度C.曝光时间D.掩膜版精度

2.以下哪种半导体材料常用于集成电路制造（）

A.硅B.碳C.铜D.铁

3.集成电路设计中，逻辑门的扇出系数是指（）

A.输入信号的个数B.输出信号的个数C.能够驱动同类逻辑门的个数D.逻辑门的功耗

4.对于CMOS集成电路，其静态功耗主要来源于（）

A.晶体管的导通电流B.栅极漏电C.电源电压波动D.信号干扰

5.集成电路制造中的化学气相沉积（CVD）工艺主要用于（）

A.形成半导体有源区B.制备金属互连层C.生长绝缘层D.掺杂杂质

6.以下哪项不是集成电路测试的主要目的（）

A.验证电路功能是否正确B.检测电路性能指标是否达标C.发现电路中的故障D.提高电路的运行速度

7.集成电路设计中，时序分析主要关注的是（）

A.逻辑门的延迟B.信号的传输路径C.电路的功耗D.