原创力文档《半导体用缓冲氧化蚀刻液》
编制说明
一、任务来源
（一）任务来源
中国化工学会于2024年5月印发《关于半导体用氧化蚀刻液团体标准立项的通知》（化会字（2024）
第28号），下达了《半导体用氧化蚀刻液》团体标准制定计划。
本标准由中国化工学会提出并归口，由浙江森田新材料有限公司和中国化工情报信息协会联合牵头制
定。
（二）标准制定的目的和意义
半导体用缓冲氧化蚀刻液，以达到由HF、NHF、水表面活性剂依不同
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