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- 2026-03-12 发布于重庆
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN102473791A
(43)申请公布日2012.05.23
(21)申请号201080035324.9
(22)申请日2010.11.24
(30)优先权数据
2009-2678112009.11.25JP
(85)PCT申请进入国家阶段日
2012.02.09
(86)PCT申请的申请数据
PCT/JP2010/0068582010.11.24
(87)PCT申请的公布数据
WO2011/064993JA2011.06.03
(71)申请人独立行政法人科学技术振兴机构地址日本琦玉县
(72)发明人大津元一川添忠八井崇行武壮太郎
(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127
代理人李辉黄纶伟
(51)Int.CI.
HO1L31/10(2006.01)
权利要求书1页说明书6页附图7页
(54)发明名称
受光元件的制作方法、受光元件制作装置
(57)摘要
本发明提供一种受光元件的制作方法,不需 进行材料的选定,即可容易制作使对特定的波长 具有敏感度的元件。该制作方法包括沉积工序, 在对构成P型半导体(14)、N
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