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薄膜材料与技术复习题试卷及答案

考试时间：______分钟总分：______分姓名：______

选择题（每题2分，共20分）

1.下列薄膜制备技术中，属于“化学气相沉积”的是（）。

A.磁控溅射

B.热蒸发

C.等离子体增强CVD

D.离子束溅射

2.薄膜的“本征应力”主要来源于（）。

A.热膨胀系数差异

B.晶格失配

C.原子沉积时的点缺陷

D.外界机械载荷

3.薄膜按结构可分为（）。

A.晶态、非晶态、纳米晶

B.单层、多层、复合

C.金属、半导体、绝缘体

D.光学、电学、力学

4.磁控溅射中，施加横向磁场的目的是（）。

A.提高靶材纯度

B.增加电子电离效率

C.降低基底温度

D.减少薄膜厚度

5.椭偏仪通过测量薄膜的（）参数计算厚度与折射率。

A.振幅反射比ψ和相位差Δ

B.电阻率和热导率

C.晶格常数和缺陷密度

D.附着力与硬度

6.下列属于薄膜“表面与界面效应”的是（）。

A.热应力

B.表面能降低

C.本征应力

D.择优