CN112257270B 一种负显影光刻工艺的全芯片快速仿真方法、负显影光刻胶模型、opc模型及电子设备 (东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司).docxVIP

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  • 2026-03-22 发布于山西
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CN112257270B 一种负显影光刻工艺的全芯片快速仿真方法、负显影光刻胶模型、opc模型及电子设备 (东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN112257270B

(45)授权公告日2025.07.01

(21)申请号202011153654.X

(22)申请日2020.10.23

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN112257270A

(43)申请公布日2021.01.22

(73)专利权人东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司

地址100176北京市大兴区北京经济技术

开发区经海四路156号院12号楼

(72)发明人高世嘉谢理

(74)专利代理机构深圳市智享知识产权代理有限公司44361

专利代理师罗芬梅

(51)

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