未涂层与不同涂层黄铁矿XPS光谱分析.pdfVIP

5e未涂层黄铁矿、TEO涂层黄铁矿和N涂层黄铁矿的XPS光谱。(a)未涂层黄铁矿的

图SPS

涂黄矿的O1s峰；(c)TEOS涂层黄铁矿的Fe2p峰；(d)TEOS涂层黄铁

Fe2p峰；(b)未层铁

矿的O1s峰；(e)TEOS涂层黄铁矿的Si2p峰；(f)NPS涂层黄铁矿的Fe2p峰；(g)NPS涂层黄

铁矿的O1s峰；(h)NPS涂层黄铁矿的Si2p峰。

图5b、d和g展示了三个样品的O(1s)谱图，观察到的位于532.90和533.10eV的峰归因于

吸附水，而531.80eV的峰则于铁氧氢氧化物。然而，在硅烷基涂层黄铁矿（图5d和

g）中观察到的峰位于532.10和532.80eV，这些峰分别对应于二氧化硅和铁/硅。