CN114999968B 衬底处理装置、衬底搬送系统、半导体器件的制造方法及记录介质 (株式会社国际电气).docxVIP

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  • 2026-03-26 发布于山西
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CN114999968B 衬底处理装置、衬底搬送系统、半导体器件的制造方法及记录介质 (株式会社国际电气).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利

(10)授权公告号CN114999968B

(45)授权公告日2025.06.13

(21)申请号202210776326.8

(22)申请日2015.11.27

(65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN114999968A

(43)申请公布日2022.09.02

(62)分案原申请数据

201580084838.62015.11.27

(73)专利权人株式会社国际电气地址日本东京都

(72)发明人林昭成

(74)专利代理机构北京市金杜律师事务所11256

专利代理师李文屿

(51)Int.Cl.

H01L21

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