ASTM D5127-13 中文版 电子学和半导体工业用超纯水的标准指南.docxVIP

  • 111
  • 0
  • 约5.53千字
  • 约 8页
  • 2026-03-28 发布于广东
  • 举报

ASTM D5127-13 中文版 电子学和半导体工业用超纯水的标准指南.docx

ASTMD5127-13中文版电子学和半导体工业用超纯水的标准指南

前言

本标准由美国材料与试验协会(ASTMInternational)制定,编号为ASTMD5127-13,中文译名为《电子学和半导体工业用超纯水的标准指南》。本中文版严格遵循原版ASTMD5127-13标准的技术要求、逻辑结构和核心内容,结合中国电子及半导体行业的实操场景,对原文晦涩的直译表述进行优化,确保术语准确、表述流畅,便于国内相关企业、实验室及科研机构使用。

本标准为指导性文件,旨在为电子学和半导体工业制造过程中所用超纯水的水质控制提供推荐方案,明确超纯水的分类、技术指标、应用场景及检测要求,保障半导体组件、固态器件等产品的制造质量。本标准不适用于其他行业(如医药、食品)用超纯水的质量控制,相关场景可参考对应专项标准。

本标准替代旧版ASTMD5127-08,与原版ASTMD5127-13(2018年修订版)技术内容一致,仅在表述方式上适配中文使用习惯,未修改任何技术参数和要求。注日期的引用文件仅对应其指定版本,未注日期的引用文件以最新有效版本为准。

1范围

1.1适用领域

本指南提供了电子学和半导体工业制造相关的超纯水水质推荐要求,描述了七种不同等级的超纯水,其中包括适用于线宽低至0.032μm的半导体制造用水。所有水质推荐要求均针对分配点(POD)处的超纯水。

1.2应用场景

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档