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CN111640762B 半导体装置及其制造方法 （铠侠股份有限公司）.docxVIP

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  • 2026-04-01 发布于山西
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CN111640762B 半导体装置及其制造方法 （铠侠股份有限公司）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利

    (10)授权公告号CN111640762B

    (45)授权公告日2025.07.15

    (21)申请号201910672567.6

    (22)申请日2019.07.24

    (65)同一申请的已公布的文献号申请公布号CN111640762A

    (43)申请公布日2020.09.08

    (30)优先权数据

    2019-0376262019.03.01JP

    (73)专利权人铠侠股份有限公司地址日本东京

    (72)发明人佐贯朋也

    (74)专利代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司11287

    专利代理师杨林勳

    (51)Int.Cl.

    H

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