CN119965128A 一种改善硅抛光片边缘颗粒沾污的洗净工艺方法、设备及硅抛光片 (上海中欣晶圆半导体科技有限公司).pdfVIP

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  • 2026-04-06 发布于重庆
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CN119965128A 一种改善硅抛光片边缘颗粒沾污的洗净工艺方法、设备及硅抛光片 (上海中欣晶圆半导体科技有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119965128A

(43)申请公布日2025.05.09

(21)申请号202510143969.2

(22)申请日2025.02.10

(71)申请人上海中欣晶圆半导体科技有限公司

地址201900上海市宝山区山连路181号

(72)发明人孙涛

(74)专利代理机构上海港慧专利代理事务所

(普通合伙)31402

专利代理师蒋邦虎

(51)Int.Cl.

H01L21/67(2006.01)

权利要求书1页说明书9页附图3页

(54)发明名称

一种改善硅抛光片边缘颗粒沾污的洗净工

艺方法、设备及硅抛光片

(57

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