CN119987134A 一种丙烯酸负性光刻胶及其制备方法与应用 (江苏艾森半导体材料股份有限公司).pdfVIP

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  • 2026-04-09 发布于重庆
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CN119987134A 一种丙烯酸负性光刻胶及其制备方法与应用 (江苏艾森半导体材料股份有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119987134A

(43)申请公布日2025.05.13

(21)申请号202510151936.2C08F212/14(2006.01)

H01L21/027(2006.01)

(22)申请日2025.02.11

(71)申请人江苏艾森半导体材料股份有限公司

地址215300江苏省苏州市昆山市千灯镇

黄浦江路1647号

申请人艾森半导体材料(南通)有限公司

(72)发明人陆晓健张兵向文胜赵建龙

(74)专利代理机构北京超凡宏宇知识产权代理

有限公司11463

专利代理师颜欢

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