CN119689777A 一种用于光刻掩模优化的梯度计算方法和系统 (华中科技大学).pdfVIP

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  • 2026-04-13 发布于重庆
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CN119689777A 一种用于光刻掩模优化的梯度计算方法和系统 (华中科技大学).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119689777A

(43)申请公布日2025.03.25

(21)申请号202510166374.9

(22)申请日2025.02.14

(71)申请人华中科技大学

地址430074

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