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CN119400687A 一种晶片上沟槽图形的生成方法及其应用 （芯恩（青岛）集成电路有限公司）.docxVIP

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  • 2026-04-16 发布于山西
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CN119400687A 一种晶片上沟槽图形的生成方法及其应用 （芯恩（青岛）集成电路有限公司）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119400687A

    (43)申请公布日2025.02.07

    (21)申请号202310924964.4

    (22)申请日2023.07.26

    (71)申请人芯恩（青岛）集成电路有限公司

    地址266000山东省青岛市黄岛区太白山

    路19号德国企业南区401

    (72)发明人胡振世卿洪远张凯元

    (74)专利代理机构上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙)31286

    专利代理师张磊

    (51)Int.Cl.

    H01L21/027(2006.01)

    G03F7/20(2006.01)

    H0

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