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集成电路制造技术习题答案(第3单元).pdfVIP

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  • 2026-04-19 发布于河北
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集成电路制造技术习题答案(第3单元).pdf

    第三单元习题

    I.比较APCVDLPCVD和PECVD三种方法的主要异同？主要优缺点？

    答：

    从三种方法的工艺原理上看，APCVD、LPCVD是热激活并持化学反应发生，而PECVD是采用

    电能符反应气体等离子化从而热激活并持化学反应发生的。

    APCVD工艺温度•般控制在气相质量输运限制区，采用冷壁式反应器，在薄膜淀积过程中应精确控

    制反应剂成分、计量和气相质量输运过程。主要缺点是有气相反应形成的颗粒物。

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