CN119647405A 光刻胶模型优化及构建方法和光刻模型构建方法 (粤芯半导体技术股份有限公司).pdfVIP

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  • 2026-04-19 发布于重庆
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CN119647405A 光刻胶模型优化及构建方法和光刻模型构建方法 (粤芯半导体技术股份有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119647405A

(43)申请公布日2025.03.18

(21)申请号202510177635.7

(22)申请日2025.02.18

(71)申请人粤芯半导体技术股份有限公司

地址510000广东省广州市黄埔区凤凰五

路28号

(72)发明人姜晓晴曾辉

(74)专利代理机构北京商专永信知识产权代理

事务所(普通合伙)11400

专利代理师黄锦添

(51)Int.Cl.

G06F30/398(2020.01)

G03F7/20(2006.01)

权利要求书1页说明书8页附图5页

(54)发明名

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