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CN119411055A 一种减少涂层缺陷并降低孔隙的涂层制作方法 （江苏凯威特斯半导体科技有限公司）.docxVIP

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  • 2026-04-19 发布于山西
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CN119411055A 一种减少涂层缺陷并降低孔隙的涂层制作方法 （江苏凯威特斯半导体科技有限公司）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119411055A

    (43)申请公布日2025.02.11

    (21)申请号202510028311.7

    (22)申请日2025.01.08

    (71)申请人江苏凯威特斯半导体科技有限公司

    地址214100江苏省无锡市锡山经济技术

    开发区团结路31号

    (72)发明人薛弘宇张牧靳普云李伟东龚文凯朱文健徐钰虹徐洋陆琦严汪学桂传书

    (74)专利代理机构无锡华源专利商标事务所(普通合伙)32228

    专利代理师崔婕

    (51)Int.Cl.

    C23C4/10(2

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