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镀膜试题及详细答案

一、填空题（每空2分，共20分）

真空镀膜中，最常用的真空度范围是______Pa，真空度过低会导致膜层出现______、针孔等缺陷。

磁控溅射镀膜的核心原理是利用______轰击靶材，使靶材原子逸出并沉积在基材表面形成膜层。

镀膜前基材表面处理的关键目的是去除______、油污和氧化层，提高膜层与基材的______。

光学镀膜中，增透膜的核心作用是______光线的反射率，提高光线的______。

溅射镀膜中，______的作用是产生等离子体，为溅射过程提供能量。

二、选择题（每题3分，共15分，单选）

下列哪种镀膜方法最适合大规模生产金属装饰膜（如不锈钢膜、钛金膜）（