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CN119694920A 一种晶圆边缘薄膜层去除宽度的测量方法 （荣芯半导体(宁波)有限公司）.pdfVIP

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  • 2026-04-20 发布于重庆
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CN119694920A 一种晶圆边缘薄膜层去除宽度的测量方法 （荣芯半导体(宁波)有限公司）.pdf

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119694920A

    (43)申请公布日2025.03.25

    (21)申请号202510194374.X

    (22)申请日2025.02.21

    (71)申请人荣芯半导体（宁波）有限公司

    地址315809浙江省宁波市北仑区柴桥街

    道金水桥路28号4幢1号1层-1

    (72)发明人周瑞朱华东朱苗

    (74)专利代理机构北京市磐华律师事务所

    11336

    专利代理师高伟

    (51)Int.Cl.

    H01L21/66(2006.01)

    G06T7/13(2017.01)

    G01B21/02(2006.01)

    权利

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