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集成电路工艺原理试题总体标准答案.pdfVIP

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  • 2026-04-22 发布于河北
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集成电路工艺原理试题总体标准答案.pdf

    目录

    一、填空题（每空1分，共24分）I

    二、判断题（每小题1.5分，共9分）1

    三、简答题（每小题4分，共28分）2

    四、计算题（每小题5分，共10分）4

    五、绥合题共（9分）5

    一、填空题每（空1分，共24分）

    1.制作电阻分压器共要三次光刻，分别是电阻薄膜层光刻、高层绝缘层光刻和互连金属层光刻。

    2.集成电路制作工艺大体上可以分成三类，包括图形转化技术、酒膜制备技术、掺杂技术。

    3.晶体中的

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