CN119421447A 半导体结构及其形成方法 (长鑫科技集团股份有限公司).docxVIP

  • 1
  • 0
  • 约1.58万字
  • 约 25页
  • 2026-04-22 发布于山西
  • 举报

CN119421447A 半导体结构及其形成方法 (长鑫科技集团股份有限公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119421447A

(43)申请公布日2025.02.11

(21)申请号202310920579.2

(22)申请日2023.07.24

(71)申请人长鑫科技集团股份有限公司

地址230601安徽省合肥市经济技术开发

区空港工业园兴业大道388号

(72)发明人郭琦杨孝东黄俊杰张磊

(51)Int.Cl.

H10D30/60(2025.01)

H10D30/01(2025.01)

H10D62/10(2025.01)

权利要求书2页说明书8页附图6页

(54)发

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档