CN119422226A 降低euv光刻胶图案的线边缘粗糙度的方法 (应用材料公司).docxVIP

  • 2
  • 0
  • 约2.23万字
  • 约 30页
  • 2026-04-23 发布于山西
  • 举报

CN119422226A 降低euv光刻胶图案的线边缘粗糙度的方法 (应用材料公司).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119422226A

(43)申请公布日2025.02.11

(21)申请号202380052463.X

(22)申请日2023.07.19

(30)优先权数据

17/872,3702022.07.25US

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.07

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/US2023/0280882023.07.19

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/025773EN2024.02.01

(71)申请人应用材料公司

地址美国加利福尼亚州

(72)发明人

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档