1. 您所在位置：
  2. 网站首页
  3. 文档分类
  4. 高等教育
  5. 习题/试题

2026年半导体原料制备工专项题库.docx

2026年半导体原料制备工专项题库.docx

    第PAGE76/NUMPAGES76页

    半导体原料制备工专项题库

    一、单选题（只有一个正确答案）

    1.半导体原料制备过程中，用于提纯硅的常用方法是？

    A.区熔法

    B.沉淀法

    C.电解法

    D.蒸馏法

    答案：A

    解析：区熔法通过局部加热使杂质在熔区迁移，实现硅的提纯。

    2.硅烷（SiH4）在半导体工艺中主要用于？

    A.刻蚀

    B.氧化

    C.沉积多晶硅

    D.掺杂

    答案：C

    解析：硅烷常用于化学气相沉积（CVD）制备多晶硅薄膜。

    3.在半导体原料制备中，高纯度石英砂的主要成分是？

    A.SiO2

    B.SiC

    C.Si3N4

    D.Si

    答案：A

    解析：石英砂主要

    您可能关注的文档

    最近下载

    文档评论（0）

    1亿VIP精品文档

    更多 >

    相关文档

    更多 >