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CN119439629A 半导体制造用处理液、其制造方法、图案形成方法及电子器件的制造方法 （富士胶片株式会社）.docxVIP

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  • 2026-04-24 发布于山西
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CN119439629A 半导体制造用处理液、其制造方法、图案形成方法及电子器件的制造方法 （富士胶片株式会社）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119439629A

    (43)申请公布日2025.02.14

    (21)申请号202411906850.8

    (22)申请日2017.03.16

    (30)优先权数据

    2016-0732562016.03.31JP

    2017-0458152017.03.10JP

    (62)分案原申请数据

    201780020677.32017.03.16

    (71)申请人富士胶片株式会社地址日本

    (72)发明人上村哲也

    (74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任

    公司11021

    专利代理师薛海蛟

    (51)Int.Cl

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