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2026四川九州光电子技术有限公司招聘工艺工程师2人笔试历年参考题库附带答案详解

一、选择题

从给出的选项中选择正确答案（共50题）

1、光在光纤中传输主要利用了什么物理原理？

A.光的折射

B.全反射

C.光的衍射

D.光的干涉

2、下列哪项不属于半导体工艺中的薄膜沉积技术？

A.化学气相沉积（CVD）

B.物理气相沉积（PVD）

C.光刻

D.原子层沉积（ALD）

3、在洁净室标准中，ISOClass5对应的是哪一级别？

A.百级

B.千级

C.万级

D.十万级

4、下列哪种缺陷通常由光刻对准误差引起？

A.桥接

B.断线

C.套刻误差

D.针孔

5、摩尔定律的核心含义是指什么？

A.芯片成本每18个月减半

B.集成电路上可容纳的晶体管数目约每18-24个月增加一倍

C.计算机速度每两年翻一番

D.内存容量每年增加一倍

6、在半导体清洗工艺中，RCA清洗法的第一步SC-1主要用于去除什么污染物？

A.金属离子

B.有机污染物及颗粒

C.自然氧化层

D.光刻胶残留

7、下列哪种材料常用作LED发光层的主体材料？

A.硅（Si）

B.砷化镓（GaAs）

C.氮化镓（GaN）

D.二氧化硅（SiO2）

8、关于静电放电（ESD）对光电子器件的影响，下列说法正确的是？

A.ESD仅影响外观，不影响性能

B.ESD可能导致器