CN119698019A 一种高可靠沟槽栅碳化硅vdmos及其制备方法 (泰科天润半导体科技(北京)有限公司).pdfVIP

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  • 2026-04-26 发布于重庆
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CN119698019A 一种高可靠沟槽栅碳化硅vdmos及其制备方法 (泰科天润半导体科技(北京)有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119698019A

(43)申请公布日2025.03.25

(21)申请号202510200184.4

(22)申请日2025.02.24

(71)申请人泰科天润半导体科技(北京)有限公

地址101300北京市顺义区中关村科技园

区顺义园临空二路1号

(72)发明人何佳施广彦李昀佶陈彤

(74)专利代理机构福州市京华专利代理事务所

(普通合伙)35212

专利代理师刘晓明

(51)Int.Cl.

H10D30/01(2025.01)

H10D30/66(2025.01)

H10D64/27(2025.01)

H10D

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