CN119685824A 一种纳米复合低熔点玻璃绝缘涂层的制备方法 (天津世宇电子股份有限公司).pdfVIP

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  • 2026-04-26 发布于重庆
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CN119685824A 一种纳米复合低熔点玻璃绝缘涂层的制备方法 (天津世宇电子股份有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119685824A

(43)申请公布日2025.03.25

(21)申请号202510198272.5

(22)申请日2025.02.22

(71)申请人天津世宇电子股份有限公司

地址300000天津市津南区八里台泰达(津

南)微电子工业区科达二路H-B1

(72)发明人安京哲

(74)专利代理机构北京启航嘉知识产权代理有

限公司16264

专利代理师刘玉

(51)Int.Cl.

C23D5/02(2006.01)

C03C12/00(2006.01)

C03C14/00(2006.01)

C03C3/14(2006.01)

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