CN119739013A 一种双面套刻精度对准及保护背孔被过刻蚀风险控制方法 (合肥芯谷微电子股份有限公司).pdfVIP

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  • 2026-05-02 发布于重庆
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CN119739013A 一种双面套刻精度对准及保护背孔被过刻蚀风险控制方法 (合肥芯谷微电子股份有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119739013A

(43)申请公布日2025.04.01

(21)申请号202510247804.X

(22)申请日2025.03.04

(71)申请人合肥芯谷微电子股份有限公司

地址230088安徽省合肥市高新区创新大

道425号安徽省科技成果转化示范基

地E幢

(72)发明人于波刘家兵

(74)专利代理机构北京万新知识产权代理有限

公司16195

专利代理师汤文旋

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

G03F9/00(2006.01)

权利要求书3页说明书1

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