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等离子体刻蚀腔项目可行性研究报告

第一章项目总论

项目名称及建设性质

项目名称：等离子体刻蚀腔项目

项目建设性质：本项目属于新建高科技制造项目，专注于等离子体刻蚀腔的研发、生产与销售，旨在填补国内高端等离子体刻蚀腔市场部分空白，推动半导体装备国产化进程。

项目占地及用地指标：本项目规划总用地面积52000平方米（折合约78亩），建筑物基底占地面积37440平方米；规划总建筑面积62400平方米，其中绿化面积3380平方米，场区停车场和道路及场地硬化占地面积11180平方米；土地综合利用面积52000平方米，土地综合利用率100%。

项目建设地点：本项目计划选址位于江苏省苏州工业园区