CN119487453A 叠层体的制造方法及半导体元件的制造方法 （日产化学株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119487453A

(43)申请公布日2025.02.18

(21)申请号202380051325.X

(22)申请日2023.07.04

(30)优先权数据

2022-1092452022.07.06JP

2023-0166552023.02.07JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2024.12.31

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0247422023.07.04

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/009993JA2024.01.11

(71)申请人