CN119776006A 一种高性能x射线激发稀土余辉材料、制备方法及其在成像领域上的应用 .pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119776006A

(43)申请公布日2025.04.08

(21)申请号202510255372.7

(22)申请日2025.03.05

(71)申请人中国计量大学

地址310018浙江省杭州市钱塘区下沙高

教园区学源街258号

(72)发明人刘天宇雷磊娄开成周谡

邓德刚徐时清

(74)专利代理机构天津朗熠知识产权代理事务

所(普通合伙)12259

专利代理师刘杨

(51)Int.Cl.

C09K11/85(2006.01)

C09K11/02(2006.01)

G01T1/202(2006.01)