2026年住化电子培训测试题及答案
一、单项选择题(总共10题,每题2分)
1.下列哪项不是半导体材料的基本特性?
A.导电性介于导体与绝缘体之间
B.温度升高时电阻率下降
C.掺杂可显著改变其电学性质
D.只能用于制造二极管
2.在MOSFET结构中,栅极电压控制的是:
A.源极电流
B.漏极电流
C.沟道导电性
D.衬底掺杂浓度
3.集成电路制造中,光刻工艺的主要目的是:
A.形成金属互连
B.定义图形转移
C.进行离子注入
D.生长氧化层
4.以下哪种封装形式适用于高频应用?
A.D
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