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  • 2026-05-09 发布于广东
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电子材料工程技术人员专项题库

一、单选题(只有一个正确答案)

1.半导体硅片的最主要掺杂元素是?

A.硼

B.磷

C.砷

D.镓

答案:B

解析:在P型半导体中,三价元素(如硼)掺杂形成空穴;四价元素(如磷)掺杂形成自由电子(N型半导体)。本题强调最主要掺杂元素,磷作为N型半导体常见施主杂质,是硅片掺杂工程中最基础的概念。

2.在光纤通信中,起到全反射作用的光纤纤芯折射率应满足的条件是?

A.n1n2

B.n1n2

C.n1=n2

D.n1=0

答案:A

解析:光从光密介质(折射率大)射向光疏介质(折射率小)时会发生全反射。光纤纤芯折射率n1必须大于包层折射率n2,光才能在纤芯内传播。

3.超导材料的基本特性是电阻率为零,且具有?

A.铁磁性

B.顺磁性

C.抗磁性

D.铁电性

答案:C

解析:超导材料处于超导态时,对磁场完全排斥(迈斯纳效应),表现出抗磁性。这是区分超导体与普通导电材料的关键特性。

4.锂离子电池中,负极材料通常采用?

A.石墨

B.三氧化二铁

C.磷酸铁锂

D.金属锂箔

答案:A

解析:石墨层状结构具有良好的嵌锂能力,是锂离子电池负极的标准材料。金属锂虽然理论容量高,但因体积膨胀大难以实用化。

5.影响半导体材料载流子迁移率的主要因素不包括?

A.材料纯净

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