CN119781259A 光刻像差校准方法、装置、存储介质及电子设备 (华芯程(杭州)科技有限公司).pdfVIP

  • 0
  • 0
  • 约1.5万字
  • 约 13页
  • 2026-05-11 发布于重庆
  • 举报

CN119781259A 光刻像差校准方法、装置、存储介质及电子设备 (华芯程(杭州)科技有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119781259A

(43)申请公布日2025.04.08

(21)申请号202510281741.X

(22)申请日2025.03.11

(71)申请人华芯程(杭州)科技有限公司

地址310000浙江省杭州市余杭区良渚街

道网周路99号1幢22层2208室

(72)发明人请求不公布姓名请求不公布姓名

(74)专利代理机构深圳市嘉勤知识产权代理有

限公司44651

专利代理师帅进军

(51)Int.Cl.

G03F7/20(2006.01)

G06V10/42(2022.01)

G06V10/774(2022.01)

G06V10/766(2022.01)

您可能关注的文档

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档