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CN119575748A 具有纳米级图形化尺寸的光刻掩膜版及其制备方法 （苏州瑞而美光电科技有限公司）.docxVIP

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  • 2026-05-16 发布于山西
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CN119575748A 具有纳米级图形化尺寸的光刻掩膜版及其制备方法 （苏州瑞而美光电科技有限公司）.docx

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN119575748A

    (43)申请公布日2025.03.07

    (21)申请号202411839286.2

    (22)申请日2020.11.30

    (62)分案原申请数据

    202011369250.42020.11.30

    (71)申请人苏州瑞而美光电科技有限公司

    地址215400江苏省苏州市太仓市科教新

    城健雄路20号大学科技园一期11号楼8楼802-1室

    (72)发明人王峰

    (74)专利代理机构北京鑫瑞森知识产权代理有限公司11961

    专利代理师史云聪

    (51)Int.Cl.

    G03F1/38(

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