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纳米材料的电子显微镜样品制备技术考核试卷

一、单项选择题（每题1分，共30题）

1.在纳米材料电子显微镜样品制备中，常用的离子减薄技术是？

A.离子刻蚀

B.离子束刻蚀

C.离子溅射

D.离子注入

2.以下哪种方法不适合用于制备导电纳米材料的电镜样品？

A.蒸发沉积

B.电镀

C.离子减薄

D.离子交换

3.制备透射电子显微镜样品时，常用的支持膜材料是？

A.硅片

B.金属网格

C.石墨片

D.玻璃片

4.纳米材料电镜样品制备中，常用的胶体金标记技术属于？

A.包埋技术

B.标记技术

C.减薄技术

D.蒸发技术

5.以下哪种方法不适合用于制备纳米材料的扫描电子显微镜样品？

A.蒸发沉积

B.离