镀膜学习总结.pptVIP

镀膜学习总结;镀膜生产流程介绍;过渡室和缓冲室：主要作用是由过渡室到溅射室真空度是逐步减小的，目的

是为了保证溅射室的真空度（过渡室真空度10－2mbar，缓冲室真空度10－4mbar）

溅射室：真空磁控溅射过程，该溅射室共分为五个室

缓冲室和过渡室：作用和玻璃进入溅射室相同，主要是为了保证溅射室的真

空度

检测室：所用仪器为在线分光光度计，主要是在线检测产品的重要参数，包

括a*、b*、ΔE和Y

喷粉机：对于一些不重要的订单或者是膜面不易被氧化的产品选择对膜面喷

粉，主要是保护膜面不被划伤

贴膜：对于一些重要的订单或者是容易氧化的产品进行贴膜，保护膜面不被

氧化和划伤

下片台：在调试完样品进行生产的过程中主要是对样品进行抽检，主要是看膜面的状态，还有就是经过酒精擦拭后膜面的状态和经过钢化后膜面的状态。

;磁控溅射过程;玻璃在高真空的环境下，通入适量的工艺气体（惰性气体Ar或反应气体O2、N2）并保持真空度稳定，以磁控靶为阴极，加上交流电源（旋转靶）或直流电（非旋转靶），在高电压作用下，工艺气体发生电离，形成等离子体，电子在电场和磁场作用下，进行高速螺旋运动，碰撞气体分子，产生更多的正离子和电子，正离子达到一定能量后撞击阴极靶材，被溅射出的靶材沉积在玻璃基片上形成薄膜

;银靶;;第8页，共24页。;第9页，共24页。;产品容易出现的问题;磁控脱膜的原因分析

原片因素

原片