Labodorf光密度计：黑色光刻胶（BM）测试方案.docxVIP

彩色滤光片光刻胶（ColorFilterPhotoresist,CF光刻胶）是显示光刻胶中价值量最大、种类最多的部分。与TFT光刻胶不同，CF光刻胶在光刻成型后会永久保留在面板内部，直接参与画面的显示。彩色光刻胶（RGBResist）：包含红（R）、绿（G）、蓝（B）三种颜色的光刻胶。它们内部添加了纳米级的彩色颜料，光刻成型后构成彩色像素点，是液晶显示器实现色彩的关键。黑色光刻胶（BlackMatrix,BM）：用于隔离RGB像素，防止漏光和混色，提升屏幕对比度。

黑色光刻胶实验室研发工艺流程

1.涂布

使用透明基板（玻璃、耐热树脂等，可带ITO电极或TFT阵列）。

涂布方式：旋涂、线棒涂布、流延涂布、狭缝涂布、辊涂、喷涂等。

干燥后膜厚目标：0.5～3μm

2.干燥

减压干燥：真空干燥装置，100Pa，30秒。

加热干燥：热板或烘箱，110℃加热120秒。

温度过高会分解碱溶性树脂或引发热聚合，温度过低则干燥不均。

3.曝光

使用负性光掩模，在涂膜上覆盖掩模图案。

光源：超高压汞灯，波长以365nm（i线）为主。

曝光强度：45mW/cm2，曝光量：50mJ/cm2（全面曝光用于测试基板）。

4.显影

显影液：0.04%KOH水溶液。

显影方式：喷淋显影，水压0.05MPa，23℃，80秒。

之后停止显影用纯水洗净，也可使用含界面活性剂的碱性水溶