CN119604962A 原子层沉积方法 （周星工程股份有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119604962A

(43)申请公布日2025.03.11

(21)申请号202380054935.5

(22)申请日2023.07.26

(30)优先权数据

10-2022-00996352022.08.10KR10-2022-01054672022.08.23KR

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.20

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/KR2023/0108422023.07.26

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/034926KO2024.02.15

(71)申请人周星工程股份有限公司地址韩国京畿道

(72)发明人朴日兴黄喆周金德镐曹源泰

(74)专利代理机构北京鸿元知识产权代理有限

公司11327

专利代理师王伟李琳

(51)Int.Cl.

H01L21/02(2006.01)

H10D30/01(2025.01)

C23C16/40(2006.01)

C23C16/455(2006.01)

权利要求书2页说明书7页附图7页

(54)发明名称

原子层沉积方法

(57)摘要

CN119604962A本发明涉及一种用于形成晶体管器件的IGZO沟道层的原子层沉积(ALD)方法