CN119609960A 一种具有均匀直立泡孔的化学机械抛光垫、制备方法及其应用 （万华化学集团电子材料有限公司）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119609960A

(43)申请公布日2025.03.14

(21)申请号202311173266.1

(22)申请日2023.09.12

(71)申请人万华化学集团电子材料有限公司

地址264006山东省烟台市经济技术开发

区北京中路50号

(72)发明人刘相宝田骐源王凯卫旻嵩

(51)Int.Cl.

B24D11/00(2006.01)

B24D11/08(2006.01)

B24B37/24(2012.01)

B24B37/26(2012.01)

权利要求书1页说明书7页附图2页

(54)发明名称

一种具有均匀直立泡孔的化学机械抛光垫、

制备方法及其应用

(57)摘要

CN119609960A本发明提供一种具有均匀直立泡孔的化学机械抛光垫、制备方法及其应用，所述制备方法包括以下步骤：a)将聚氨酯树脂、表面活性剂及黑色浆溶解在溶剂中配制成涂布浆料；b)将涂布浆料以一定厚度均匀涂布在支撑层上随即浸入凝固浴中固化成型；c)水洗烘干后的抛光层进行表面砂光、压制沟槽、贴合背胶层及离型层得到化学机械抛光垫。本发明方法制备的化学机械抛光垫具有均匀直立泡孔，相比传统类型的抛光垫，能够赋予抛光垫更均匀的抛光速率，还可延

CN119609960A

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