CN119631020A 感光性表面处理剂、层积体、图案形成用基板、晶体管、图案形成方法和晶体管的制造方法 (株式会社 尼康).docxVIP

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  • 2026-06-01 发布于山西
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CN119631020A 感光性表面处理剂、层积体、图案形成用基板、晶体管、图案形成方法和晶体管的制造方法 (株式会社 尼康).docx

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119631020A

(43)申请公布日2025.03.14

(21)申请号202380057426.8

(22)申请日2023.08.22

(30)优先权数据

2022-1319012022.08.22JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.27

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0300882023.08.22

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/043222JA2024.02.29

(71)申请人株式会社尼康

地址日本东京都

(72)发明人川上雄介山口和夫伊藤伦子

(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限

公司11127

专利代理师沈娥褚瑶杨

(51)Int.Cl.

G03C1/72(2006.01)

C07F7/18(2006.01)

H05K1/03(2006.01)

权利要求书3页说明书31页附图4页

(54)发明名称

感光性表面处理剂、层积体、图案形成用基板、晶体管、图案形成方法和晶体管的制造方法(57)摘要

一种感光性表面处理剂,其包含下述式(M1)所示的化合物。式(M1)中,R1为直链状、支链状或环状的碳原子数1~6的烷基,Y1为直链状或支链状的碳原子数1~4的

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