CN119631603A 对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的制造方法、程序及存储介质 （佳能特机株式会社）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119631603A

(43)申请公布日2025.03.14

(21)申请号202380056331.4

(22)申请日2023.06.21

(30)优先权数据

2022-1248982022.08.04JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.01.24

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0228662023.06.21

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/029221JA2024.02.08

(71)申请人佳能特机株式会社地址日本

(72)发明人谷和宪长沼义人

(74)专利代理机构中国贸促会专利商标事务所

有限公司11038

专利代理师李双亮

(51)Int.Cl.

H10K71/16(2006.01)

C23C14/04(2006.01)

H10K50/10(2006.01)

权利要求书2页说明书14页附图14页

(54)发明名称

对准装置、成膜装置、对准方法、电子器件的

制造方法、程序及存储介质

(57)摘要

CN119631603A对准装置使用设置于基板的基板标记及设置于掩模的掩模标记来进行基板及掩模的对准。多个检测部件检测基板标记及掩模标记。确定部件使用多个检测部件的检测结果来确定基板及掩模的