2026年电子真空镀膜工专项题库(附答案与解释).docxVIP

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电子真空镀膜工专项题库(附答案与解释)

一、单选题（只有一个正确答案）

1.电子真空镀膜机通常采用的抽气方法是？

A.机械泵与扩散泵串联

B.机械泵单独使用

C.水环泵单独使用

答案：A

解析：为了获得高真空环境，电子真空镀膜机通常将机械泵作为前级泵，扩散泵或分子泵作为高真空泵串联使用。

2.在真空镀膜中，薄膜的厚度通常以什么单位表示？

A.毫米

B.微米

C.米

答案：B

解析：薄膜的厚度极薄，通常以微米（μm）或纳米（nm）为单位进行计量。

3.以下哪种材料常被用作电子束蒸发源中的发热体（坩埚）？

A.铝

B.氧化铍

C.塑料

答案：B

解析：氧化铍具有极高的熔点和导热性，且在高温下化学稳定性好，是电子束蒸发源常用的高性能坩埚材料。

4.真空镀膜中，如果真空度不够高，薄膜容易产生什么缺陷？

A.附着力强

B.气孔多、疏松

C.透明度高

答案：B

解析：真空度低时，残余气体分子会进入膜层，导致膜层气孔多、结构疏松，严重影响薄膜性能。

5.溅射镀膜中，常用的靶材通常是？

A.纯金属或合金

B.塑料

C.木头

答案：A

解析：溅射镀膜的靶材通常由金属材料制成，通过高能粒子撞击将其原子溅射出来沉积在基片上。

6.镀膜过程中，基片温度过高可能导致什么现象？

A.薄膜结晶良好

B.薄膜内应力减小