MOCVD设备，全球前7强生产商排名及市场份额（by QYResearch）.pdfVIP

全球市场研究报告

MOCVD设备全球市场总体规模

MOCVD（金属有机化学气相沉积）设备是半导体行业的关键装备，用于在衬底上以原子级精度外延生

长高质量的化合物半导体薄膜。这些外延层通常由氮化镓（GaN）、磷化铟（InP）或砷化镓（GaAs）等材

料构成，是多种电子与光电子器件的基础。通过对外延层厚度、成分及掺杂等参数的精确控制，MOCVD系

统能够支撑高效率、高可靠性器件的制造。

MOCVD技术在多个领域具有广泛应用，包括发光二极管（LED）、激光二极管以及功率电子器件等。

在LED领域，MOCVD是制备决定亮度、色品质与能效表现的外延层的主流方法。在功率电子方面，MOCVD

用于外延生长GaN材料层，支撑高压晶体管在电动汽车、可再生能源系统等场景中的应用。该设备同样是

垂直腔面发射激光器（VCSEL）及其他激光二极管制造的关键环节，这类器件广泛用于通信、传感与工业应

用。

MOCVD工艺的基本过程是将金属有机前驱体与氢化物等气体引入加热的反应腔体，在反应条件下分解

并在衬底表面沉积形成晶体外延层。要获得均匀、低缺陷的外延薄膜，必须对温度、气体流量与压力等关键

参数进行精密控制。现代MOCVD系统通常配备多片式反应器、自动化衬底传输以及实时过程监测功能，从