中材半导体材料 （武汉）有限公司年产1000件陶瓷器件生产线项目水土保持报告表.pdfVIP

年产1000件陶瓷器件生产线项目

水土保持方案报告表

二〇二六年四月

年产1000件陶瓷器件生产线项目水土保持方案报告表特性表

水土保持方案报告表

位置武汉东湖新技术开发区高新二路以北、未来一路以西长江存储产业生态园区内。

本项目规划用地面积为12642.85m2，建构筑物基底面积为5848.08m2，总建筑面积

21199.6m2，计容建筑面积20856.12m2，绿地面积865.00m2，容积率为1.68，建筑系数

建设内容

46.26%6.84%1

为，绿地率为。主要新建号厂房、消防水池、水泵房等，并配套建设

绿化、给排水、道路和照明等附属设施。

建设性质